在使用光刻机制造芯片的时候，使用6个9纯度的光刻机，那生产芯片的良品率就可以做到百分之九十五以上。
而使用我们纯度只有2个9的光刻胶，良品率也就只能达到百分之六十。
别小看了这百分之三十五的良品率的差距，这就意味着咱们生产芯片的成本会是人家的两倍还高。
这也是当年为啥日本说停止向南朝国出口光刻胶之后，南朝国立刻就跪了的一个主要原因。
还有就是真空蒸镀机这样的设备！
这种机器，可能很少有人听说过。
可这种设备，在如今的显示器领域，那江湖地位就和今天阿斯麦在芯片领域的地位完全一样。
全世界目前做的最好的就只有一家，就是佳能！
倒也不是说别的国家不能生产这种设备，而是你根本就做不到人家的水平。
这真空蒸镀机的原理就顾名思义，就是在真空的情况下用电流加热，电子束轰击加热，激光加热等等办法，蒸发镀膜材料。
使得这些镀膜材料气化，然后在分子碰撞之间完成化学反应，最后沉降到液晶基片上凝结，最后形成镀膜。
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